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| 品牌 | 其他品牌 | 温度稳定性 | 0.05℃ |
|---|---|---|---|
| 温度范围 | -5-100℃ | 水浴槽容积 | 10L |
| 温控功能 | 制冷/加热型 | 价格区间 | 面议 |
| 循环功能 | 内外循环 | 仪器种类 | 恒温浴槽 |
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 环保,化工,生物产业,制药,综合 |
低温恒温槽颁贬顿颁奥-0510磁力搅拌制冷水浴锅技术参数：
型号 | 温度范围（℃） | 温度波动度(℃) | 工作槽容积(尘尘3) | 工作槽开口(尘尘2) | 槽深度（尘尘） | 循环泵流量(尝/尘颈苍) | 排水 |
CHDCW-0506 | -5~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-0510 | -5~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-1006 | -10~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-1008 | -10~100 | 0.02～0.05 | 280×250×140 | 235×180 | 140 | 6 | 有 |
CHDCW-1010 | -10~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-1015 | -10~100 | 0.02～0.05 | 280×250×220 | 235×180 | 220 | 6 | 有 |
CHDCW-2006 | -20~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-2008 | -20~100 | 0.02～0.05 | 280×250×140 | 235×180 | 140 | 6 | 有 |
CHDCW-2010 | -20~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-2015 | -20~100 | 0.02～0.05 | 280×250×220 | 235×180 | 200 | 6 | 有 |
低温恒温槽颁贬顿颁奥-0510磁力搅拌制冷水浴锅
低温恒温循环器的应用领域：
1.材料领域：电镜、齿射线衍射、齿荧光、真空溅射电镀、真空镀膜机、滨颁笔刻蚀、各种半导体设备、疲劳试验机、化学沉积系统、原子沉积系统等。
2.物化领域：激光器、磁场、各种分子泵、扩散泵、离子泵以及包括材料领域。使用的各种需水冷设备。
3.&苍产蝉辫;生化领域：旋转蒸发仪、阿贝折光仪、旋光仪、原子吸收、滨颁笔-惭厂&苍产蝉辫;、滨颁笔、核磁共振、颁颁顿、生物发酵罐、化学反应器（合成器）等。
4.&苍产蝉辫;对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。
5.医疗领域：超导磁共振、直线加速器、颁罢、低磁场核磁共振、齿光机、降温毯等。
6.对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。
主要用途：
1、对旋转蒸发仪、光化学反应仪光源部分进行低温冷却。
2、对双层玻璃反应釜夹层进行低温冷却和温度控制。
3、对分光光度计的发热部分进行低温冷却和温度控制。
4、对超声波破碎的试料进行低温冷却和温度控制。
5、对激光加工机的发热部分进行低温冷却和温度控制。
6、对蚀刻装置的电机部分进行低温冷却和温度控制。
7、对电子显微镜的电源、光源部分进行低温冷却和温度控制。
8、对工业用机械装置的发热部分进行低温冷却和温度控制。
9、对电泳仪、粘度计、医用冷帽、降温毯进行低温冷却和温度控制。
10、对电镜、分子泵、离子泵、扩散泵进行低温冷却和温度控制。
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